主要检测 Micro LED晶圆外观缺陷:爆点、双晶、划伤、压伤、Sio2 脱/ITO 脱、背镀偏薄,缺失、多金 、发光区不良、黑点、切偏、无针痕等
Athena HS4500是业内领先的2D+3D+IR多模态一体化检测平台,集成了高分辨率2D缺陷检测、纳米级3D形貌计量、近红外透射内部成像三大核心能力,实现对先进封装晶圆从表面到内部、从二维到三维的全方位质量表征。
系统采用相干光扫描成像技术,结合纳米级精密运动平台,实现对基板表面及亚表面缺陷的高灵敏度检测,为后续TGV工艺筑牢第一道质量防线。
Zeus HS2000实现了 “检测-反馈-补打”一体化闭环控制。系统不仅能够以纳米级精度检测诱导点的位置、形貌与阵列完整性,更能将漏点或不良点的精确坐标实时同步至激光诱导设备,自动触发补打指令,实现诱导缺失位置的精准二次加工,确保每一颗通孔的诱导点都完整、准确、符合设计预期。
Zeus HS3000能够在 23℃±0.2℃ 的超稳定环境控制下,实现对通孔三维形貌与缺陷的纳米级精度测量。系统通过三面同步成像技术,可捕获通孔顶部、底部及侧壁的完整信息,确保对复杂三维结构的无死角表征。
Zeus HS4000纳米级 3D X 射线检测设备采用非接触、无损伤的 3D CT 成像技术,以 500nm@160kV 的 3D 空间分辨率,穿透 TGV 基板的多层结构,精准捕获微米级内部缺陷,为先进封装制造提供从工艺研发到量产检测的全流程质量保障。
Zeus HS5000采用穹顶光均匀照明与荧光光致发光成像技术,实现对多层RDL结构中每一层铜线路的精准检测,有效屏蔽下层线路的光学干扰。系统可同时兼容 PR、PSPI、ABF、BCB 等多种透明介质材料,通过多光谱融合与AI算法,清晰呈现2*2μm L/S精细线路的真实形貌。
公司一直致力于技术创新,不断推出具有行业领先水平的设备产品,满足了客户对高质量、高效率设备的需求。
公司在设备制造领域拥有多年的经验积累,能够根据客户的具体需求提供专业地定制化的设备解决方案,满足客户的个性化需求,帮助客户实现生产目标。
公司严格把控产品质量,从原材料采购到生产制造的每一个环节都遵循高标准、严要求,确保满足客户技术要求,同时设备能长期稳定运行。